L'IMEC prosegue la ricerca sulla litografia EUV

L'istituto belga di ricerca IMEC ha annunciato di aver concluso l'installazione di un macchinario di pre-produzione per la litografia Extreme Ultra-Violet (EUVL) presso la fabbrica situata nella cittadina di Leuven.

L'annuncio pubblico avrà luogo in occasione della SPIE Advanced Lithography Conference di San Jose con un discorso di Luc Van den hove, presidente e CEO di IMEC. L'installazione del macchinario rappresenta la concretizzazione dell'impegno dell'IMEC nelle attività di ricerca per il perfezionamento della litografia extreme ultraviolet, una delle tecniche maggiormente accreditate per la produzione di semiconduttori di prossima generazione.

Il programma di ricerca di IMEC sulle tecniche EUVL affronterà ora i problemi specifici che sorgono con il passaggio dalla trazionale litografia alla litografia EUVL, in particolare nei processi per la realizzazione di semiconduttori di classe 20nm e 10nm. Particolare attenzione sarà inoltre posta sui photoresist che consentono di sfruttare in maniera ottimale la risoluzione possibile con le tecniche EUVL, migliorando le caratteristiche dei bordi delle sagome.

"Siamo entusiasti dell'acquisizione del macchinario NXE:3100 di ASML nel nostro stabilimento di ricerca poiché ci permetterà di continuare ad offrire ai nostri partner la ricerca di cui hanno bisogno per poter portare le tecniche EUVL alla fase di produzione. Le nostre relazioni strategiche con i fornitori di macchinari come ASML ci permettono di offrire ai nostri partner la ricerca sui macchinari più avanzati" ha dichiarato Luc Van den hove.